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      掃描電化學顯微鏡技術(SECM)
      • 發布時間 : 2020-10-28 13:05:32
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      1.什么是掃描電化學顯微鏡技術?
      掃描電化學顯微鏡(SECM)是一種測量樣品在溶液中局部電化學活性的掃描探針技術。反饋模式是最常見的SECM形式,測量與樣品相互作用的氧化還原介質的法拉第電流,引起固有的化學選擇性。
      SECM是A.J.Bard[1]在1989年提出的,它是基于先前的工作,證明了從有偏壓的大電極擴散的電活性物種可以通過其擴散層內的微電極進行測量[2]。在這項工作的基礎上,研究表明,當探針靠近樣品時,即使沒有偏壓樣品,與溶液中氧化還原介質相互作用的偏壓探針所測得的信號也會受到影響,并且也會受到接近絕緣樣品的影響。此外,SECM測量的信號取決于探針和樣品之間的距離。掃描電化學顯微鏡利用這種現象來描繪樣品的電化學活性和形貌。

      自引入和商業化以來,SECM已成為最流行的掃描探針電化學技術。最初引入的直流(dc)SECM形式所提供的靈活性僅在近年來通過引入交流(ac)SECM和一些恒定距離SECM模式而得到擴展。雖然本文只考慮最簡單的SECM形式,即僅探針有偏壓的反饋模式,但有關其他SECM類型的更多信息,可以在我們的網站中找到。


      2.SECM技術是如何工作的?
      在SECM中,超微電極(UME)探針在已知電位下偏壓,保持在樣品附近以測量由于電化學活性物質(氧化還原介質)在間隙中擴散并在UME處被還原或氧化而產生的法拉第電流。測得的法拉第電流反映了樣品的電化學活性。在最簡單的SECM反饋模式中,樣品在開路電位(OCP)下保持無偏壓。

      SECM的UME探針是該技術的關鍵工作原理。在SECM中,通常使用25微米或更小的直徑。當使用UME時,會發生半球向電極的擴散,如圖1所示,并且探針在電解質中測得的穩態電流由氧化還原物質向UME探針的擴散確定。這意味著測得的穩態法拉第電流由下式給出:

      其中iss是穩態電流,n是轉移的電子數,F是法拉第常數,單位為C mol-1,D是擴散系數,單位為cm2s-1,C是體積濃度,單位為mol cm-3,r是UME的半徑,單位為cm。該方程表明,測量電流與氧化還原介質的濃度直接相關。

      當偏壓的UME探針與絕緣樣品接近時,出現負反饋,氧化還原介質向探針的擴散受阻,如圖2所示。這導致探針測得的氧化還原介質濃度較低,因此測得的電流比溶液中的電流低。當SECM探針位于導電樣品上方時,樣品充當雙極電極,即使沒有偏壓,也可以循環探針下方區域的氧化還原介質,如圖3所示,并局部達到能斯特平衡電位。這種介質循環導致探針檢測到的介質濃度局部增加,進而導致測量電流增加。

      隨著探針到絕緣樣品間隙的減小,介質擴散受阻的程度增加。這導致絕緣體上探針到樣品的距離減小時,電流的絕對值減小。另一方面,隨著探針到導電樣品間隙的減小,來自樣品的正反饋增加,導致導體上探針到樣品的距離減小時,電流的絕對值增加。圖4中對比了這些響應。通過比較可以看出,兩種樣品性質對掃描電化學顯微鏡測量的信號有影響:(1)樣品活性;(2)樣品形貌。如果考慮兩種不同的樣品類型,一種是具有高低形貌變化的均勻絕緣樣品,另一種是具有非均勻活性的完全平坦樣品,則可以進一步證明這些不同的對比度。這兩種樣品類型都會顯示SECM探針信號的變化,但原因不同。當測量具有高低形貌變化的均勻絕緣樣品時,探針到樣品的距離在整個測量過程中發生變化。這導致由于絕緣體處的負反饋而使電流信號絕對值高于谷值,低于峰值,如圖5所示。對于具有活性變化的完全平坦樣品,還可以看到電流信號的波動。在這種情況下,探針到樣品的距離在整個測量過程中保持不變,因為探針從正反饋區域移動到負反饋區域,反之亦然,所測量的電流變化,在最活躍區域的電流的絕對值更高,如圖6所示。因此,對于非常粗糙的樣品,控制探針到樣品的距離進行SECM測量是有益的。有許多方法可以實現恒定距離的SECM,盡管本文不討論這些方法。


      3.SECM的基本測試類型
      SECM有兩種基本的實驗類型:SECM逼近曲線和線掃描(可構建區域掃描)。
      探針與樣品之間的距離對測量電流的影響是探針逼近曲線實驗的關鍵,在逼近曲線實驗中,探針響應是其在z軸中位置的函數,即探針與樣品之間的距離。逼近曲線在SECM中有許多函數,最常用的是通過逼近曲線來定位探針相對樣品的距離,以進行線掃描或區域掃描測量。它也可以用作獨立的實驗類型。例如,逼近曲線被證明是測量樣品溶脹隨時間變化[3],并且在改變樣品偏壓條件下[4]的有效技術。它們還用于研究在不易被宏觀電化學測量的樣品上發生的反應動力學,例如活細胞和二維材料。
      線掃描實驗是一種SECM測量方法,在接近基底的位置上對探針進行x或y方向的水平掃描,并將探針信號繪制為位置的函數。區域掃描是通過在遞增的y方向位置執行的一系列x方向線掃描建立起來的。這就生成了區域圖像相關的探測信號,通常是電流,圖7中給出一個例子。區域掃描對于顯示樣品的局部電化學特征特別有用,并且隨著時間的推移不斷進行測量時,可用于跟蹤電化學過程的演變。


      掃描電化學顯微鏡并沒有成像實驗那樣普遍,它是用來測量探針靠近樣品表面的情況,以研究樣品中物質的吸附、解吸和溶解。這些測量是在固定位置使用標準電化學測量的,并且取決于從樣品到探針的物質擴散。


      4.SECM的組成

      如圖8所示,SECM由許多部件組成。為了滿足x,y,z方向的掃描,SECM都有一個x,y,z掃描平臺,能夠達到最高分辨率測量所需的亞微米級步長。雖然反饋模式只要求探針有偏壓,需要一個單一的恒電位儀測量,但SECM在其他模式下進行時,也要求樣品作為第二工作電極有偏壓。因此,SECM都使用雙恒電位儀。樣品放置在工作臺上的一個電化學電解池中,為調整樣品的傾斜度做了準備。最后,SECM需要使用UME探針,其通常作為測量中的主要工作電極。

      SECM中使用的UME是由一個被絕緣套包圍的活性電極材料組成,其直徑是嚴格控制的。探針尖端被磨平,形成一個活性區域,即一個扁平的圓盤電極。在SECM中,由于UME對測量結果的影響很大,所以應該仔細考慮它。SECM測量的分辨率最終取決于探針活動區域的直徑。通常,選擇與感興趣的特征相似或小于感興趣特征的尺寸的探針。雖然對于間隔良好的活性特征,探針可以檢測到更小的特征。探針直徑還決定了在整個測量過程中探針與樣品表面的距離。因此,活動直徑較小的探針需要較小的探針到樣品的距離。同樣重要的是絕緣護套的半徑與活性材料的半徑之比。這稱為RG比,由下式給出:


      其中R是絕緣護套的半徑,r是電極的有效面積的半徑。RG比率影響生成的SECM圖像的清晰度。如果RG比過大,氧化還原介質向探針活性區的擴散會在絕緣樣品上的較大探針到樣品的距離處受阻。雖然RG比為1可能會得到最好的結果,但事實并非如此。當RG比太小時,氧化還原介質在絕緣體上的擴散不會被有效阻止。因此,由此產生的不良負反饋響應可能導致導電區和絕緣區之間缺乏區分。通常情況下,SECM探針的RG比為10,但這可能會有所不同。例如,最小的探針可以用較大的RG比制成,以提高耐久性。探針的最后一個關鍵特性是使用的活性材料。這會影響探針的可接近電化學窗口,以及可在探針處執行的電化學。在大多數SECM出版物中,Pt是首選的探針材料[5]。


      5.為什么要采用SECM技術?
      掃描電化學顯微鏡有許多優點。使用SECM可以局部檢測樣品的電化學活性。在宏觀電化學中,測量的是整個樣品的平均值,這意味著可能對測量有很大影響的局部特征和過程不能與其他特征區分開來。通過使用SECM可以將這些效果可視化。比如,使用SECM來測量新材料晶粒和晶界的電化學特性,這些特征通常對系統的整體電化學特性有不同的影響,否則很難區分。此外,SECM是一種非接觸技術,與原子力顯微鏡(AFM)等其他局部測量技術相比,可以在更大的探針到樣品的距離上進行。這在測量容易通過接觸而損壞的易碎樣品時尤其有利,例如在電池電極上形成的固體電解質界面或二維材料薄片。SECM對樣品也沒有導電性要求,它可以用來測量從完全絕緣到完全導電的樣品,甚至那些導電區域被隔離在絕緣基體中的樣品。這使得SECM具有高度的靈活性,適用于廣泛的應用領域。此外,這意味著SECM可以用來測量可能很難用宏觀電化學測量的樣品,特別是因為電接觸不容易而無法測量的樣品。例如液-液界面、生物材料、二維材料和電極陣列,每個點都可以單獨測試。最后,SECM對測量中使用的介質具有固有的選擇性。這意味著可以探測特定化學物質與樣品的相互作用。這在研究催化劑、抗原-傳感器相互作用、生物分子代謝產物的釋放以及鋰離子在電池電極上的插層/脫層等方面具有重要意義。


      6.SECM可以用來做什么?
      SECM可用于任何由宏觀電化學測量的系統,其中局部電化學特性是有意義的,圖9為一些已使用SECM的領域。由于其廣泛的適用性,SECM已被廣泛應用于很多領域,包括:
      研究腐蝕過程[6]
      涂層破損分析[7]
      電池電極上固體電解質界面形成的研究[8]
      燃料電池催化劑的篩選[9]
      活細胞形態的測量[10]
      穿過膜的離子流動研究[11]
      二維材料的電子性質[12]


      參考文獻
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      [3]Elkebir, S. Mallarino, D. Trinh, S. Touzain, Electrochim. Acta 337 (2020) 135766
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      [10]Razzaghi, J. Seguin, A. Amar, S. Griveau, F. Bedioui, Electrochim. Acta 157 (2015) 95-100
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